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EE系列多功能二維材料轉(zhuǎn)移實驗平臺，專為低維材料異質(zhì)結(jié)器件轉(zhuǎn)移所推出的商用解決方案。...

半導(dǎo)體激光器HSL系列HSL系列激光器具有電路集成、即插即用、小型化、連續(xù)半導(dǎo)體激光器標準化接口等特點，廣泛應(yīng)用于憶阻器、光電傳感器、半導(dǎo)體材料與檢測等領(lǐng)域。波長覆蓋范圍從紫外到紅外波段（261~38...

可為幾乎所有類型的污染物、所有基材和所有后續(xù)處理提供解決方案,分解由分子級的工藝殘留污染物。...

HMDS晶片預(yù)處理系統(tǒng)主要用于半導(dǎo)體芯片涂膠前的預(yù)處理工藝,去除晶片表面的OH強基,形成HMDS膜,增強涂膠后的附著力,提高光刻質(zhì)量增加成品率。...

該設(shè)備是一種新型工業(yè)級潔凈干燥設(shè)備,采用獨特的內(nèi)外艙分體結(jié)構(gòu)結(jié)合內(nèi)循環(huán)風(fēng)道設(shè)計,通過耐高溫超高效過濾器H.E.P.A不斷對內(nèi)部進行自凈化過濾,從而形成高潔凈、溫度均勻的密閉的高溫?zé)犸L(fēng)烘烤環(huán)境。...

SMCSpin150i/200i/300i系列精密型勻膠機脫胎于實驗室定制機型,它的旋轉(zhuǎn)及控制系統(tǒng)采用定制開發(fā)的無刷/同服電機,結(jié)構(gòu)精密,制造嚴謹。...

加熱臺是一種用于加熱實驗室器血或樣品的設(shè)備,主要用于科研、教學(xué)和工業(yè)生產(chǎn)中的加熱實驗。...

l-line光刻膠、負性光刻膠、Remover300系列去膠液...

CDC濕法刻蝕顯影機適應(yīng)丁半導(dǎo)體、化工材料、硅片、晶片、基片、導(dǎo)電玻璃等工藝,制版的表面顯影。...

使用F20高級頻諾反射測量系統(tǒng),我們能輕松的實現(xiàn)對膜層厚度和光學(xué)常數(shù)(n和k值)的測量。通過對膜層頂部、底部反射光諾進行分析,數(shù)秒內(nèi)我們即可得到膜層的厚度、折射牢和消光系數(shù)。...

依靠F50先進的光譜測量系統(tǒng),可以很簡單快速地獲得最大直徑450毫米的樣品薄膜的厚度分布圖。采用r0極坐標移動平臺,可以非?？焖俚亩ㄎ凰铚y試的點并測試厚度,每秒測試兩點...

配備精密多維運動控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)隨樣品高度隨動,以及二維的膜厚mapping功能...